半导体核心物料检测

Intertek 可为半导体溶剂、超纯水及来料质检提供专业的痕量金属检测服务，欢迎了解。

在先进半导体制造领域，纯度管控早已不局限于颗粒物检测。微量杂质会直接影响芯片性能、生产良率与工艺稳定性。

随着芯片器件架构持续迭代，铁、铜、钠、铬等万亿分之一水平的元素杂质，可能在关键工艺材料中带来生产风险，包括溶剂、超纯水、进厂化学品等。

Intertek 可提供专业的痕量金属检测服务，助力半导体制造商及供应商在化学品投入核心产线前，充分把控物料品质。

半导体核心物料的先进检测服务

高纯度溶剂与超纯水广泛应用于晶圆加工、清洗、光刻胶剥离、边缘胶去除以及污染物管控等全流程关键工序。

Intertek 可针对各类半导体核心物料开展检测，服务范围包括：

1. 超纯水：1~5 级超纯水（UPW）全指标监测
2. 溶剂：丙酮、异丙醇（IPA）、丙二醇甲醚醋酸酯（PGMEA）、N-甲基吡咯烷酮（NMP）、二甲基亚砜（DMSO）、四氢呋喃（THF）、环己酮、乙酸乙酯等各类电子溶剂
3. 来料质检：化学品入库前及全生产流程中的供应商资质核验
4. 痕量金属分析：高通量（ICP-MS）测试，全方位管控杂质污染风险
5. 铁纳米颗粒分析：spICP-MS分析区分单质铁颗粒与溶解态铁，并完成颗粒计数、粒径分析及分布检测

解决干扰挑战

有机溶剂基体复杂，环己酮、乙酸乙酯等试剂会产生碳基光谱干扰，大幅提升传统检测方法的难度。

Intertek 的先进分析能力，包括扇形磁场ICP-MS和三重四极杆ICP-QQQ技术，有助于支持：

• 复杂光谱干扰的分离
• 挑战性溶剂基质的亚ppt灵敏度
• SEMI C8至C12级认证的快速分析支持
• 支持供应商资格认定和工艺控制的可靠数据

对于高端制造企业而言，精准的检测数据能够减少不确定性、加速决策，保障核心产线稳定运行。